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DIN 50455-2
English -- Characterization of photoresists used in semiconductor technology - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists;
German -- Pruefung von Materialien fuer die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken
Organization:
DIN - Deutsches Institut für Normung e. V.
Year: 1999
Subject: Halbleitertechnologie
Collections
:
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| contributor author | DIN - Deutsches Institut für Normung e. V. | |
| date accessioned | 2017-09-04T18:43:45Z | |
| date available | 2017-09-04T18:43:45Z | |
| date copyright | 1999.11.01 | |
| date issued | 1999 | |
| identifier other | KCTXJBAAAAAAAAAA.pdf | |
| identifier uri | https://yse.yabesh.ir/std/handle/yse/225144 | |
| language | English | |
| title | DIN 50455-2 | num |
| title | English -- Characterization of photoresists used in semiconductor technology - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists | en |
| title | German -- Pruefung von Materialien fuer die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken | other |
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| page | 5 | |
| status | Active | |
| tree | DIN - Deutsches Institut für Normung e. V.:;1999 | |
| contenttype | fulltext | |
| subject keywords | Halbleitertechnologie | |
| subject keywords | Lichtempfindlichkeit | |
| subject keywords | Photolack |